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在設計光學全息圖時，分析元件上的條紋頻率以確保可制造性是很重要的。本文提供了自定義分析，允許對序列全息圖 1、全息圖 2 和光學制造全息圖表面等類型進行此類研究。還提供了源代碼，用于演示如何通過 ZOS-API 創建自定義分析和準備設置對話框，用以開放用戶分析設置的自定義交互。

簡介 在 OpticStudio 序列模式中可用的工具允許通過兩束構建光的干涉來定義全息圖。由于全息圖的定義十分靈活，用戶可能使用過于密集的條紋圖案來模擬不可生產的全息圖。本文介紹了用于觀察全息圖條紋結構和密度的 ZOS-API 分析。 我們提供了用于用戶分析的源代碼作為示例。該分析使用了UserAnalysisSettings 模式。

Moldex3D光學模塊建立在真實三維實體技術上的流動分析，以黏彈性分析所預測出的流動殘留應力為出發，對于非等向性的分子排向而產生的雙折射現象能有良好的掌握。Moldex3D Optics提供使用者如何著手修改幾何外型、澆口設計、射速、保壓、冷卻系統等影響光學性質的重要加工因子。

此外，通過軟件的數據分析功能，還可對干涉條紋的間距、對比度等參數進行定量測量，若需進一步研究外界因素（如溫度、振動）對干涉條紋的影響，可在軟件中添加相應的擾動模型，開展更貼近實際應用場景的仿真分析。

隨溫度變化曲線 提供的信息：熱轉變溫度模量和tgδ 17 透射電子顯微術 TEM 分析原理：高能電子束穿透試樣時發生散射、吸收、干涉和衍射，使得在相平面形成襯度，顯示出圖象譜圖的表示方法：質厚襯度象、明場衍襯象、暗場衍襯象、晶格條紋象、和分子象提供的信息：晶體形貌、分子量分布、微孔尺寸分布

比較兩種制程的總和光彈條紋分析結果(圖六)則可發現，傳統制程在澆口處的光彈條紋變化劇烈，表示有較大的殘留應力，應是使用較大的保壓壓力所造成。而在IMMC制程中，因為有模內壓縮的輔助，可降低澆口壓力，所以澆口處的條紋變化較不劇烈。 完成模流分析后，便進行實際試模，以驗證Moldex3D分析結果的準確度。

例如：要檢視組別的結果，請在Studio樹狀目錄中選擇組別（Run） > 分析結果（Result）> 光學分析（Optics）> 流動導致雙折射（flow-induced birefringence）。其結果將在顯示窗口（display window）中展現，如下圖。同樣地，使用相同的方法以檢視雙折射、光程差（下圖）、條紋級數與光彈條紋。 2.

1、將電路解體分塊，分成若干單元電路 一些復雜的電路，通常可以按照電路所實現的功能分為幾個部分，這樣可以把一個復雜的電路分解成若干簡單的電路來分析， 簡化了分析電路的難度。

實射產品以儀器測量收縮凹陷量-490.5μm(下)比較兩種制程的光彈條紋分析，傳統射出成型光彈條紋密集，光學性質差(圖九)。然而利用射出壓縮成型，光彈條紋較均勻，同時由于壓合速度越快，澆口處殘留應力較為均勻，光學性質大幅改善 (圖十)。圖九 傳統射出成型：澆口處光彈條紋密集，光學性質欠佳(上)。實際射出產品光彈儀拍攝圖，也顯示光程差(下)。

楊氏實驗的結果可以定性地解釋為條紋圖，也可以定量地解釋為相干因子（作為為光源寬度的函數）。兩種理論都會在本文中詳細分析。 本文將討論雙縫實驗背后的理論，并在OpticStudio的非序列模式下對該實驗進行精確建模。 楊氏雙縫干涉實驗 楊氏雙縫干涉衍射實驗是描述空間相干性在干涉條紋形成中所起到的作用的經典裝置。

馬赫曾德干涉儀-Z案例分析簡介馬赫曾德干涉儀作為經典的分波前干涉裝置，廣泛應用于光學檢測、精密測量、光通信等領域，其核心功能是通過光束分束、反射、合束產生干涉條紋，實現對介質折射率、光路相位差、物體微小形變等物理量的精準測量。

圖10 在SysML參數圖中建立屬性與分析模型的關系 約束模塊是SysML中可重用的分析模塊。參數圖可能使用多種約束塊來定義更加復雜的解析關系。上圖是一個剎車片示例的參數圖。該圖使用了四個約束塊包括基于Excel電子表格的成本分析和剎車片的分析，卡尺， 和基于c++程序的剎車距離。

楊氏實驗的結果可以定性地解釋為條紋圖，也可以定量地解釋為相干因子（作為為光源寬度的函數）。兩種理論都會在本文中詳細分析。本文將討論雙縫實驗背后的理論，并在OpticStudio的非序列模式下對該實驗進行精確建模。楊氏雙縫干涉實驗楊氏雙縫干涉衍射實驗是描述空間相干性在干涉條紋形成中所起到的作用的經典裝置。

OAS 軟件將基于幾何光學原理，逐光線計算其經分束、反射、疊加后的傳播路徑及光程差分布，自動生成接收屏上的干涉條紋圖像及數據文件。 等厚干涉時的三維追跡圖 探測器上形成的直條紋總結本案例通過 OAS 軟件成功實現了邁克爾遜等厚干涉現象的精準仿真，為光學研究與實踐提供了多重價值。

通過對衍射條紋的分析，可以獲取到關于望遠鏡成像分辨率、光學系統像差等重要信息。例如，條紋的間距、清晰度等特征，能夠直觀反映望遠鏡對不同距離天體細節的分辨能力；條紋的對稱性和均勻性，則可用于評估光學系統的像差校正效果。

4.本征模分析提供精確的本征模分析功能，支持查看諧振頻率、品質因素等結果。5.輻射/散射分析具有完備的散射/輻射分析功能，支持常見的端口設置和邊界設置。6.三維輻射方向圖顯示提供三維輻射方向圖顯示功能，直觀查看天線等輻射體的輻射性能。7.多物理場耦合功能提供多物理場耦合功能，能精確分析電磁-熱耦合問題。

基于菲涅耳積分原理，軟件對光波在探測器處的疊加效果進行計算，從而精準模擬出菲涅爾衍射條紋，為后續的分析提供了清晰、直觀的可視化結果。菲涅爾衍射的三維追跡圖菲涅爾衍射的探測器結果圖總結OAS 軟件的模擬，在探測器上清晰呈現出了菲涅爾衍射條紋。

圖3和圖4為IM和ICM的翹曲與總和光彈條紋比較。結果顯示ICM減少了總位移和收縮，相較于IM也具備更好的光學性能。圖3 IM和ICM間總位移的比較圖4 IM與ICM總和光彈條紋的比較最終，模擬結果通過實際成型實驗的驗證，在4吋基盤上成功的制作出具有相似光條紋和光學性質的雙面微透鏡數組(圖5)。

本文介紹如何使用 NSC 矢高圖用戶分析功能在非序列模式下測量和顯示對象的矢高。了解此功能的基礎知識，包括如何設置復雜 CAD 零件的文件以獲取特定面的矢高值。（聯系我們獲取文章附件） 介紹 OptocStudio 的序列模式具有表面矢高分析功能，該功能將表面從局部頂點的矢高或 z 位置變化顯示為表面上 x 和 y 位置的函數。

計算完后即可在光學分析得到產品和嵌件的折射率、光程差、條紋級數和圓偏光儀的光彈條紋。此時的光學分析結果，就包含了成型過程與光傳遞總體在塑件與嵌件一起的影響。更多功能–平面偏光分析Moldex3D光學分析的標準結果項中，光彈條紋顯示的是圓偏光儀的條紋，或稱為等差線，此條紋不隨產品在平面上旋轉的角度而變。