LSDYNA 2D爆炸模擬，無反射邊界不起作用，邊界還是會有反射？
這是XY平面的一個2D爆炸模型，關于ZY平面對稱，Y軸對稱，約束了Y方向的位移，右側添加無反射邊界，但是還是會反射，我把無反射邊界關了，只留對稱邊界，還是會反射，把所有的邊界都去掉，自由場也可以計算，但是得到的峰值壓力比加了邊界的峰值壓力要小，請問這是什么原因造成的？無反射邊界為什么沒起到作用？
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用戶_12203 ??? 1年前
ansys爆破模擬建立一半模型，請問對稱面上（空氣和土體）應該設置什么關鍵字？
如圖所示我建立一半模型在空氣和巖體（空氣和巖體都是如圖所示大小）的對稱面上只加無反射邊界這樣對嗎？
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:)_1555 ??? 3年前
彈丸侵徹碳化硅陶瓷/纖維復合材料靶板，對稱模型、復合材料鋪層、材料方向、粘結接觸、無反射邊界設置
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CAE孔乙己 ??? 2年前
Ansys Zemax | 如何在 OpticStudio 內對斜切端面光線進行建模 
您可以打開 Analyze...光纖耦合...單模耦合工具，在分析窗口設置內，按照下圖進行設置。調整物體距離后，當前耦合效率計算為 99.8%。在設置下，如果選中使用偏振選項來考慮兩個空氣-透鏡界面處的菲涅耳反射損耗，則耦合效率會下降到 91.5%。如果要考慮接收光纖面-空氣邊界的反射損失，可以將模型玻璃分配給像平面的材料欄內 (n = 1.47)。
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宇熠科技 ??? 2月前
Ansys Zemax | 如何在 OpticStudio 內對斜切端面光線進行建模 
您可以打開 Analyze...光纖耦合...單模耦合工具，在分析窗口設置內，按照下圖進行設置。調整物體距離后，當前耦合效率計算為 99.8%。在設置下，如果選中使用偏振選項來考慮兩個空氣-透鏡界面處的菲涅耳反射損耗，則耦合效率會下降到 91.5%。如果要考慮接收光纖面-空氣邊界的反射損失，可以將模型玻璃分配給像平面的材料欄內 (n = 1.47)。
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宇熠科技 ??? 1年前
Ansys Zemax | 設計抬頭顯示器時要使用哪些工具 – 第二部分 
DIVI操作數可用于計算放大率（像面上的主光線高度與物面上的比率）。將在這些DIVI操作數上放置10的權重因子。 ·畸變：最后一個規格是關于畸變。它必須低于2%。 像畸變這樣的近軸計算并不總是能很好地處理具有坐標間斷的非對稱系統。使用畸變操作數時，請始終驗證結果是否合理。
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宇熠科技 ??? 3年前
Lumerical案例 | 垂直腔面發射激光器(VCSEL)結構導入、反射率和冷腔模擬 
重要模型設置冷腔模擬：要運行冷腔模擬，必須啟用VCSEL求解器“General”選項卡中的“calculate cold cavity spectrum”選項。反射率分析：為了計算整個VCSEL結構的反射率光譜，必須在VCSEL求解器“General”選項卡中的“reflectivity structure group”選項中選擇“All”。
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摩爾芯創 ??? 4月前
設計抬頭顯示器時要使用哪些 OpticStudio 工具 – 第二部分 
DIVI操作數可用于計算放大率（像面上的主光線高度與物面上的比率）。將在這些DIVI操作數上放置10的權重因子。 畸變：最后一個規格是關于畸變。它必須低于2%。 像畸變這樣的近軸計算并不總是能很好地處理具有坐標間斷的非對稱系統。使用畸變操作數時，請始終驗證結果是否合理。
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Ansys中國 ??? 3年前
SYNOPSYS 光學設計軟件課程三十九：設計自由曲面反射系統 
我們想要的是在圖像上和下視場點之間的距離為 20 毫米。如上所述，程序通過 GDR 控制此操作。 我們的系統目前還不太好。理應設置其他一些變量。慢慢地改變這個系統才是明智的，所以我們要逐步優化。因此，我們通過刪除命令行前的 “!” 先移除 G3 到 G10 變量表面的的注釋字符 “!”。 VY 2 RAD !
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墨光科技 ??? 2年前
設計抬頭顯示器時要使用哪些 OpticStudio 工具 – 第三部分 
對于像HUD這樣的非對稱系統，該工具無法正常工作。 另一種解決方案如下所述： ?在鏡頭數據編輯器中，選擇Make Double Pass工具： 該系統在表面12上包含一個反射面，該反射就是LCD。只有我們系統的之后部分才值得關注。 ?表面24是新的STOP表面。
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Ansys中國 ??? 3年前
Ansys Zemax | 設計抬頭顯示器時要使用哪些工具 – 第三部分 
對于像HUD這樣的非對稱系統，該工具無法正常工作。 另一種解決方案如下所述：?在鏡頭數據編輯器中，選擇Make Double Pass工具： 該系統在表面12上包含一個反射面，該反射就是LCD。只有我們系統的之后部分才值得關注。 ?表面24是新的STOP表面。
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宇熠科技 ??? 3年前
ZEMAX | 探索 OpticStudio中的序列模式 
在OpticStudio中，該數據可以在系統選項欄中的孔徑菜單中進行設置。點擊系統孔徑左側的下拉箭頭，您可以在展開的菜單中對系統孔徑進行設置。 視場數據用來定義物面上發射光線的位置。該數據同樣可以在系統選項中設置。
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宇熠科技 ??? 3年前
ZEMAX | OpticStudio 的冷反射分析宏 
為旋轉對稱系統。 只包含一種結構。 每個透鏡表面都分配了鍍膜。 使用OpticStudio的鬼像分析，從表面2到最后一個表面生成單次反射鬼像文件，并保存到設計文件夾中。這個工具可以在分析…雜散光……鬼像分析處找到。 宏“Narcissus.zpl”需要探測器溫度，外殼溫度，環境溫度，以及用鬼像分析生成的單次反射鬼像文件。
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宇熠科技 ??? 4年前
設計仿真 | 基于Marc的對稱結構仿真 
其余設置類似常規接觸設置對稱接觸體的特點 對稱平面可方便的用于定義對稱條件 可代替某些固定邊界條件 自動設置很高的分離力，不會發生分離 只允許接觸面上的切向運動 僅適用于剛性曲線或曲面 自動進行相應的對稱線或對稱面的延伸，避免退出號2400循環對稱在循環對稱問題中，如果結構的幾何和荷載周期性變化，則可只取結構的一部分建立模型，循環對稱問題通過勾選分析任務中的循環對稱來進行定義
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海克斯康設計與仿真 ??? 1年前
COMSOL 中定義隨時間任意變化的電信號的方法 
不過，我們現在研究的情況要 求采用更真實的邊界條件。 傳輸線、集總端口和終端條件 在電磁波，瞬態接口中，讓我們再來看看集總端口邊界條件。前面我們已經討論過電流類型，稍后將討論電路類型，現在我們將重點討論電纜類型。電纜選項可以定義電壓信號和電纜阻抗。這樣我們就可以理解這里給定了一個在指定阻抗的、無限無損耗的傳輸線條件，例如 ，并在無限電纜上放置一個信號源。
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學時習 ??? 2年前
半導體加工中的材料熱仿真方法 
給定光束輪廓在頂面上的強度分布，剩下整個域的光束強度通過計算獲得。 在沉積材料的頂層和底層之間的介電界面，將再次存在菲涅耳方程描述的反射和透射。光束的反射分量使用已有的 吸收介質中的輻射光束 接口進行處理，只需添加第二個入射強度 功能就可以了。
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我是小能 ??? 3年前
基于相位補償方法的天線增益提高 
觀察切面電場通過FSS的波動圖像可知，參數選擇合適時，電場以近似行波狀態通過單元，無反射。
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萬有引力LYQ ??? 2年前
Ansys Zemax | 如何建立LCD背光源模型 
最后一組操作數 (15-18) 是邊界約束，以防止陣列變得太大或太小，當無邊界約束時，優化會有產生極限解的趨勢。注意這些操作數的負數權重，它們就像拉格朗日乘數一樣工作，迫使目標得以實現。優化分配的變量如下：球面物體：半徑陣列物體：Number X’ & Y’, Delta1 X’ & Y’, Delta2 Y’由于對稱性的考慮，陣列只需要在y方向上是非線性的。
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宇熠科技 ??? 2年前
Ansys Zemax | 如何在序列模式下模擬分光棱鏡 
該棱鏡由N-BK7玻璃組成，并且表面鍍有MgF2抗反射膜層。其中，中間的50/50分光膜層為理想膜層，并且與偏振、入射角和波長無關。在上圖中顯示的綠色光線為反射光線，在入射到上面的像面前首先經過下面的反射鏡反射。我們將計算兩個像面上，考慮M-BK7玻璃的體吸收、表面膜層的菲涅爾損耗以及理想的50/50分光膜層的正確透射光強。
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宇熠科技 ??? 1月前
Ansys Zemax光學設計軟件技術教程：如何建立LCD背光源模型 
最后一組操作數 (15-18) 是邊界約束，以防止陣列變得太大或太小，當無邊界約束時，優化會有產生極限解的趨勢。注意這些操作數的負數權重，它們就像拉格朗日乘數一樣工作，迫使目標得以實現。優化分配的變量如下：球面物體：半徑陣列物體： Number X’ & Y’, Delta1 X’ & Y’, Delta2 Y’由于對稱性的考慮，陣列只需要在y方向上是非線性的。
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w**elab86_Swsp ??? 3年前
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