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附件下載聯(lián)系工作人員獲取附件概述這篇文章介紹了： 如何在序列模式下使用多重結(jié)構(gòu)創(chuàng)建分光棱鏡 如何在布局圖以及分析/計(jì)算窗口中同時(shí)追跡透射和反射光線 在考慮偏振及鍍膜的影響下如何計(jì)算透射和反射光線的總能量介紹在OpticStudio中，分光棱鏡可以在序列或非序列追跡模式下模擬。在非序列中，光線可以在折射表面上分裂為折射和反射光線。

概述 這篇文章介紹了：· 如何在序列模式下使用多重結(jié)構(gòu)創(chuàng)建分光棱鏡· 如何在布局圖以及分析/計(jì)算窗口中同時(shí)追跡透射和反射光線· 在考慮偏振及鍍膜的影響下如何計(jì)算透射和反射光線的總能量（聯(lián)系我們獲取文章附件） 介紹 在 OpticStudio 中，分光棱鏡可以在序列或非序列追跡模式下模擬。

光纖模式帶寬可以在時(shí)域測(cè)量，使用光脈沖發(fā)射到光纖的一端，并測(cè)量輸出的時(shí)間響應(yīng)。將信號(hào)轉(zhuǎn)換為頻域之后，可以從傳遞函數(shù)H(f)看出帶寬。濾波器分析儀組件與多模發(fā)生器相結(jié)合，可以方便地測(cè)量光纖帶寬。DMD測(cè)量50μm光纖系統(tǒng)：使用默認(rèn)的全局參數(shù)，我們可以開始添加組件來(lái)分析光纖DMD。

隨后為了分析調(diào)制信號(hào)的光譜特性，我們采用光譜分析儀（OSA）進(jìn)行測(cè)量，其結(jié)果與S21曲線吻合（圖3b）。但頻率受限于矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀的帶寬。我們將激光器波長(zhǎng)設(shè)置在正交點(diǎn)，并選擇矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀生成的15至35GHz范圍內(nèi)的多個(gè)射頻頻率來(lái)獲得調(diào)制效率。

中央視場(chǎng)的數(shù)據(jù) 傾斜視場(chǎng)模式數(shù)據(jù) 熱圖文檔 足跡原始數(shù)據(jù)文檔 ?原始數(shù)據(jù)結(jié)果描述了每種視場(chǎng)模式下每個(gè)足跡的中心位置。?這一信息可用于確定相互作用的數(shù)量，并可作為在需要?jiǎng)?chuàng)建具有調(diào)制功能的光路時(shí)考慮適當(dāng)支撐點(diǎn)數(shù)量的基礎(chǔ)。

如軟件界面所示，以上兩個(gè)數(shù)值端口邊界都需要“邊界模式分析”研究步驟。下一步是設(shè)置材料屬性，添加兩個(gè)空材料，分別設(shè)置芯層和包層的折射率為n_core和n_cladding。 邊界模式分析中，需要設(shè)置模式分析頻率為f0，并輸入模式搜索基準(zhǔn)值為芯層的折射率n_core。頻域中，需要輸入頻率f0。 到此為止，模型的設(shè)置都完成了，點(diǎn)擊計(jì)算按鈕進(jìn)行計(jì)算。

圖3逐層優(yōu)化各層厚度結(jié)果圖光學(xué)模式分析表明（圖4），優(yōu)化后器件的波導(dǎo)模式占比顯著降低至3.83%，吸收損耗從97%降至49.50%，而空氣模式占比提升至42.89%。這一結(jié)果證實(shí)了優(yōu)化策略的有效性，即通過(guò)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)將更多的光子從束縛模式轉(zhuǎn)換為可出射的空氣模式。

摘要組件內(nèi)部光場(chǎng)分析器： FMM使用戶能夠研究微觀和納米結(jié)構(gòu)內(nèi)的電磁場(chǎng)分布。為此，通過(guò)應(yīng)用傅里葉模態(tài)法/嚴(yán)格耦合波分析（FMM/RCWA）計(jì)算任意周期結(jié)構(gòu)，包括透射和反射光柵、介電或金屬光柵。也可以指定領(lǐng)域的哪一部分應(yīng)該可視化：正向模式，反向模式，或兩者結(jié)合。

混合模式系統(tǒng)中最常用和最有意義的分析功能是點(diǎn)列圖和幾何圖像分析，因?yàn)樗鼈儾恍枰魏谓S數(shù)據(jù)。 鏡頭數(shù)據(jù)編輯器中的NSC表面支持玻璃材料定義，可用于定義NSC物體所處環(huán)境的材料和折射率。如果定義了材料，則輸入口和輸出口會(huì)成為材料的邊界。 由序列系統(tǒng)孔徑定義的光線（序列光線）無(wú)法在NSC組中的探測(cè)器上看到，同樣的NSC中的光源發(fā)出的光，也無(wú)法離開NSC組。

中央視場(chǎng)的數(shù)據(jù) 傾斜視場(chǎng)模式數(shù)據(jù) 熱圖文檔 足跡原始數(shù)據(jù)文檔 ? 原始數(shù)據(jù)結(jié)果描述了每種視場(chǎng)模式下每個(gè)足跡的中心位置。? 這一信息可用于確定相互作用的數(shù)量，并可作為在需要?jiǎng)?chuàng)建具有調(diào)制功能的光路時(shí)考慮適當(dāng)支撐點(diǎn)數(shù)量的基礎(chǔ)。

圖4 激發(fā)光源配置分析結(jié)構(gòu)的激發(fā)光場(chǎng)及細(xì)節(jié)配置如上圖所示，同樣的道理我們?cè)O(shè)定以中間芯作為激光模式廣場(chǎng)的入射中心，并且以纖芯基模模式光作為入射光源得以進(jìn)行分析。結(jié)果展示： 最終得到的結(jié)果如下圖所示，可以看出在傳輸?shù)倪^(guò)程中，中間纖芯基本模式光能量與旁瓣纖芯模式光能量之間時(shí)刻發(fā)生的相互耦合的作用。最后，有相關(guān)需求，歡迎通過(guò)公眾號(hào)聯(lián)系我們。

混合模式系統(tǒng)中最常用和最有意義的分析功能是點(diǎn)列圖和幾何圖像分析，因?yàn)樗鼈儾恍枰魏谓S數(shù)據(jù)。 鏡頭數(shù)據(jù)編輯器中的NSC表面支持玻璃材料定義，可用于定義NSC物體所處環(huán)境的材料和折射率。如果定義了材料，則輸入口和輸出口會(huì)成為材料的邊界。 由序列系統(tǒng)孔徑定義的光線（序列光線）無(wú)法在NSC組中的探測(cè)器上看到，同樣的NSC中的光源發(fā)出的光，也無(wú)法離開NSC組。

基于矢量光束經(jīng)透鏡聚焦的光場(chǎng)分布分析，在高數(shù)值孔徑系統(tǒng)中，矢量衍射光束聚焦場(chǎng)具有以下特征：（1） 聚焦光場(chǎng)具有顯著的偏振特性，要用矢量衍射理論進(jìn)行分析計(jì)算；（2） 聚焦光場(chǎng)各偏振分量與入射光場(chǎng)偏振態(tài)相關(guān)，并且出現(xiàn)軸向偏振分量。經(jīng)過(guò)高數(shù)值孔徑透鏡聚焦，光束的矢量偏振性質(zhì)發(fā)生變化。

在下圖（A部分）中看到紫色的遮擋光束和右側(cè)（B部分），由于鏡筒上的機(jī)械孔徑直徑略有增加，新模擬的光機(jī)械系統(tǒng)沒有任何可見的遮擋光束。 經(jīng)過(guò)初次目視檢查后，可以使用 OpticsBuilder 分析工具深入分析光學(xué)性能。

自訂分析模式用於填充自訂分析的資料。這些資料是用OpticStudio提供的現(xiàn)有圖形來(lái)顯示，用於大多數(shù)分析。此模式不允許對(duì)當(dāng)前鏡頭系統(tǒng)或使用者介面進(jìn)行更改（即：在這種模式下只允許對(duì)系統(tǒng)的副本進(jìn)行更改）。自訂分析可以用C++ (COM)或C# (.NET)編寫。本文的自訂分析是用C#編寫的。

概要這篇文章旨在向新用戶介紹序列模式的功能。文中介紹了如何設(shè)置系統(tǒng)屬性，使用布局圖 (Layouts)、基本的分析功能和擴(kuò)展的光源模型，以及對(duì)離軸系統(tǒng)進(jìn)行建模。簡(jiǎn)介光線追跡廣泛應(yīng)用于模擬光在光學(xué)系統(tǒng)中的傳播過(guò)程。使用光線追跡的方式對(duì)光的傳播進(jìn)行模擬的方法通常稱為幾何光學(xué)。

這篇Blog介紹了 OpticStudio 中的原生體積全像模擬功能，該功能可以在考慮其物理特性的情況下，在序列模式下對(duì)全像光柵進(jìn)行全面模擬和分析。在非序列模式下也透過(guò)使用 DLL 展示了相同的功能。這些分析對(duì)於設(shè)計(jì)用於虛擬實(shí)境 (VR) 和增強(qiáng)實(shí)境 (AR) 的抬頭顯示器 (HUD) 和頭戴型顯示器 (HMD) 等系統(tǒng)非常重要。我們將介紹模型中使用的理論和參數(shù)。

第三，我們可以為完美匹配層定義典型波長(zhǎng)，或使用直接來(lái)自邊界模式分析的傳播常數(shù)在電磁波、波束包絡(luò) 物理場(chǎng)接口的波矢量 設(shè)置中指定相位。注意：對(duì)于微帶線或共面線等射頻設(shè)備，為了接收 TEM 或準(zhǔn) TEM 模式，數(shù)值端口有一些特殊設(shè)置。圖8. 帶有散射體的光波導(dǎo)頻域分析。這個(gè)模型中使用了 4 個(gè)數(shù)值端口。您可以看到用于終止基本模式的第二個(gè)數(shù)值端口的 邊界模式分析的設(shè)置窗口。

對(duì)于高靈敏度的光學(xué)系統(tǒng)，盡可能多地建模這些雜散光現(xiàn)象將有助于準(zhǔn)確地分析系統(tǒng)的性能。雜散光可以通過(guò)OpticStudio進(jìn)行分析，在另一篇知識(shí)庫(kù)文章中進(jìn)行了雜散光分析詳細(xì)步驟的介紹，但是分析眩光則需要預(yù)先進(jìn)行設(shè)置。相反，普通光學(xué)成像系統(tǒng)只需要通過(guò)前向散射效應(yīng)來(lái)分析眩光，如本文后半部分所示。準(zhǔn)備進(jìn)行分析的鏡頭我們要建立一個(gè)有保護(hù)平板的成像系統(tǒng)。

本設(shè)計(jì)實(shí)例中，我們通過(guò)對(duì)該晶體外加電壓的分析調(diào)整而最終減少該光發(fā)送機(jī)中的啁啾量，其模型的設(shè)計(jì)布局圖如圖1.3所示：圖1.3 雙驅(qū)動(dòng)型LiNbO3 Mach-Zehnder調(diào)制激光發(fā)送機(jī)設(shè)計(jì)圖1.2.4 模擬分析在圖1.3中，驅(qū)動(dòng)電路1的電壓改變量ΔV1和驅(qū)動(dòng)電路2的電壓改變量ΔV2是相同的。圖1.4為MZ調(diào)制器的參數(shù)設(shè)定窗口。